纪录 #00365科技档案
首次在商业晶圆厂安装高数值孔径EUV光刻机
英特尔于2024年在美国俄勒冈州希尔斯伯勒研发厂区完成业内首套商用高数值孔径EUV光刻系统安装。
达成时间
2024
2024年4月
- 完成者
- 地点
- 希尔斯伯勒 ·
档案图示 / 01
非按比例绘制
ASML TWINSCAN EXE:5000采用0.55数值孔径，相比上一代0.33数值孔径EUV设备提升光学分辨能力。
英特尔在2024年4月宣布该设备已安装并进入校准阶段；ASML于2026年再次确认其行业首次地位。
纪录结论已有充分核实依据。
依据类别：权威机构直接确认
英特尔与ASML直接确认2024年首次安装商用High-NA EUV系统。
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